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J-GLOBAL ID：201202290438954908   整理番号：12A0591374

高パワー密度狭帯域軟X線加工装置の開発とシリコーンゴムの微細加工

Development of a micromachining system for irradiation with narrow band soft X-ray at high power density and micromachining of silicone rubber

著者 (8件)： 鳥居周一 (筑波大 大学院) ,  牧村哲也 (筑波大 大学院) ,  村上浩一 (筑波大 大学院) ,  岡崎功太 (九大) ,  中村大輔 (九大) ,  岡田龍雄 (九大) ,  高橋昭彦 (九大 医学研究院) ,  新納弘之 (産業技術総合研)
資料名： 電気学会光・量子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： OQD-12  号： 1-11  ページ： 5-8  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： Z0922A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 狭帯域軟X線の集光光学系として,新たにRuコート楕円ミラーを開発し,最大パワー密度2×10⁷W/cm²を実現した。これを用いて,波長11,13.5nmの狭帯域軟X線を1×10⁷W/cm²で照射して,シリコーングムのマイクロスケールでのアブレーション加工をし,狭帯域軟X線照射によって微細加工の可能性を確認した。アブレーションのためにはパワー密度が重要であった。また,アブレーション表面の化学構造は軟X線照射前と比べて変化せず,加工後もシリコーンゴムの優れた特性を生かすことができた。

シソーラス用語： 狭帯域 ,  *軟X線 ,  *シリコーンゴム ,  *アブレーション ,  *マイクロマシニング ,  アスペクト比 ,  表面性状 ,  *レーザプラズマ ,  *X線照射 ,  ポリジメチルシロキサン ,  エネルギー密度 ,  分子構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• (1) D. Figeys, and D. Pinto : "Lab-on-a-Chip: A Revolution in Biological and Medical Sciences.", Anal. Chem. Vol. 72, No. 9, p. 330A (2000).
• (2) T. Yamamoto, T. Nojimab and T. Fujii "PDMS-glass hybrid microreactor array with embedded temperature control device. Application to cell-free protein synthesis", Lab Chip. Vol. 2, p. 197 (2002).
• (3) K. Takahashi, K. Orita, K. Matsumura, and K. Yasuda "On-Chip Microcultivation Chamber for Swimming Cells Using Visualized Poly(dimethylsiloxane) Valves", Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 42, No. 9A, p. 1104, (2003).
• (4) W. Zheng, Z. Wang, W. Zhang and X. Jiang : A simple PDMS-based microfluidic channel design that removes bubbles for long-term on-chip culture of mammalian cells", Lab Chip. Vol. 10, p. 2906, (2010).
• (5) K Hosokawa, T Fujii, and I Endo : "Handling of Picoliter Liquid Samples in a Poly(dimethylsiloxane)-Based Microfluidic Device", Anal. Chem. Vol. 71, No. 20, p. 471 (1999).

タイトルに関連する用語 (7件)： パワー密度 ,  狭帯域 ,  軟X線 ,  加工装置 ,  開発 ,  シリコーンゴム ,  微細加工