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J-GLOBAL ID：201202291121033536   整理番号：12A0539670

TTFCOO^-NH⁴⁺中のプロトン欠陥誘起キャリアドーピング : 溶剤によるドーピングレベルの調節

Protonic defect induced carrier doping in TTFCOO^-NH₄ ⁺: Tunable doping level by solvent

著者 (4件)： TERAUCHI Takeshi (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Sengen 1-2-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  KOBAYASHI Yuka (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Sengen 1-2-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  IWAI Hideo (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Sengen 1-2-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  TANAKA Akihiro (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Sengen 1-2-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, JPN)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 162  号： 5-6  ページ： 531-535  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TTFCOO^-NH⁴⁺のドーピングキャリアの起源を,初めてX線光電子分光法(XPS)を用いて塩橋におけるプロトン欠陥を含むことを確認した。TTFCOO^-NH⁴⁺のスピン出現を,塩結晶化に適した溶媒選択により,非常に広い範囲(9~33%)で調整可能であった。溶媒依存性の塩のスピン濃度は,近赤外領域の光吸収強度,g-テンソルの値,および室温下の直流伝導度と弱く相関した。塩のドーピングレベルを決定する溶剤を,塩におけるプロトン欠陥の包摂を制御する可能性がある溶媒の自己解離能力(pK_SH)によって3つのカテゴリに分類した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *オレフィン化合物 ,  *硫黄複素環化合物 ,  アンモニウム化合物 ,  *キャリア注入 ,  *ドーピング ,  キャリア ,  *ドーパント ,  電気伝導 ,  X線光電子分光法 ,  液間電位 ,  電位差測定法 ,  プロトン化 ,  *陽子 ,  *プロトン移動 ,  スピン密度 ,  ESR【磁気共鳴】 ,  電子スピン ,  *溶媒効果 ,  テンソル ,  解離定数 ,  結合定数 ,  G値 ,  g因子 ,  磁気回転効果 ,  光吸収 ,  酸素複素環化合物 ,  脂肪族ニトリル ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン ,  エーテル ,  脂肪族化合物 ,  脂肪酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： g値 ,  XPS法 ,  *アンモニウム塩 ,  *キャリアドーピング ,  スピン結合定数 ,  *テトラチアフルバレン誘導体 ,  *プロトン欠陥 ,  塩橋 ,  電荷輸送

分類 (3件)： 半導体と絶縁体の電気伝導一般  (BM03041P) ,  電子スピン共鳴一般  (BM07021V) ,  酸塩基平衡  (CB04020D)

物質索引 (6件)： 1,4-ジオキサン ,  Δ^2,2′-ビ[1,3-ジチオール]-4-カルボン酸アンモニウム ,  アセトニトリル ,  クロロホルム ,  ジエチルエーテル ,  酢酸エチル

タイトルに関連する用語 (7件)： プロトン ,  欠陥 ,  誘起 ,  キャリアドーピング ,  溶剤 ,  ドーピング ,  調節