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J-GLOBAL ID：201202291408809837   整理番号：12A1219445

集束イオンビーム加工及び画像化を用いるシリカ及びカルコゲナイドガラスからなるマイクロスフィアの欠陥評価

Evaluation of imperfections in silica and chalcogenide glass microspheres using focussed ion beam milling and imaging

著者 (3件)： KANE D. M. (Macquarie Univ., NSW, AUS) ,  CHATER R. J. (Imperial Coll. London, London, GBR) ,  MCPHAIL D. S. (Imperial Coll. London, London, GBR)
資料名： Journal of Microscopy  (Journal of Microscopy)
巻： 247  号： 2  ページ： 186-195  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： B0454B  ISSN： 0022-2720  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シーケンシャル集束イオンビーム(FIB)加工を,2次イオン(SI)及び2次電子(SE)画像と組合わせて,マイクロスフィアの均質性を調べるのに適用した。FIBについては,イオン源としてGa液体金属イオンを用い,30keVでのビーム電流は~100pA(必要に応じ~0.3~1nA),並びに加工ビームスポット~140nmであった。試料として,ゾル-ゲル法により合成した2種のナノポーラスシリカ微細球(粒径3~5μm),並びにGa₂S₃とLa₂S₃との溶融冷却により調製したカルコゲナイドガラス微細球(粒径70μm程度)を用いた。これら試料を深さ方向にスパッタしてSIとSE画像を用いて試料の三次元的形状の解析を試みた。その結果シリカ微細球の1種に内部の光学的不均質が観察されたが,他1種には内部不均質は見られなかった。またカルコゲナイドガラス微細球にも内部不均質はほとんど見られなかった。この解析過程では,SI画像を主に,そしてSI画像とSE画像の対比を付加的に用いた。

シソーラス用語： *集束イオンビーム ,  *石英ガラス ,  *カルコゲン化物ガラス ,  *ミクロスフェア ,  *加工欠陥 ,  *品質検査 ,  ゾル-ゲル法 ,  多孔性 ,  ガリウム化合物 ,  硫化物 ,  ランタン化合物 ,  結晶化 ,  スパッタリング ,  二次イオン ,  電子
準シソーラス用語： ナノ多孔性 ,  硫化ガリウム ,  硫化ランタン ,  二次電子

分類 (2件)： ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 集束イオンビーム ,  画像化 ,  シリカ ,  カルコゲナイドガラス ,  マイクロスフィア ,  欠陥 ,  評価