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J-GLOBAL ID：201202292830554449   整理番号：12A1212301

滞留時間制約と活動時間変化を持つ単一アームクラスタツールのPetriネットモデリングとウエハ滞留時間解析

Petri Net Modeling and Wafer Sojourn Time Analysis of Single-Arm Cluster Tools With Residency Time Constraints and Activity Time Variation

著者 (4件)： QIAO Yan (Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN) ,  WU NaiQi (Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN) ,  ZHOU MengChu (New Jersey Inst. Technol., NJ, USA) ,  ZHOU MengChu (Tongji Univ., Shanghai, CHN)
資料名： IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing  (IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing)
巻： 25  号： 3  ページ： 432-446  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： T0521A  ISSN： 0894-6507  CODEN： ITSMED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 活動時間が変化するとき,滞留時間制約により単一アームクラスタツールを操作するのは難しい。本稿では,この問題に対してPetriネット(PN)モデルを開発した。Petriネットに基づき,これを使って活動時間変化の影響を可能な限り相殺する実時間制御法を提案した。そしてウエハ滞留時間遅延を解析し,上限を計算する解析式を作成した。この方法により,与えられたスケジュールが限られた活動時間において実現可能かどうかチェックすることができる。これらの結果を検証するアプリケーション事例を示した。

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  半導体プロセス ,  *滞留時間 ,  時間 ,  Petriネット ,  実時間処理 ,  *スケジューリング ,  モデリング
準シソーラス用語： クラスタツール ,  活動時間

分類 (2件)： 工程管理  (KB03030P) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (8件)： 滞留時間 ,  制約 ,  活動時間 ,  クラスタツール ,  Petriネット ,  モデリング ,  ウエハ ,  解析