文献
J-GLOBAL ID:201202293333778577   整理番号:12A0604450

サブミクロン金属薄膜における超高周波での応力勾配誘起疲れ

Stress-gradient induced fatigue at ultra high frequencies in sub micron thin metal films
著者 (4件):
資料名:
巻: 103  号:ページ: 80-86  発行年: 2012年01月 
JST資料番号: E0438A  ISSN: 1862-5282  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
音響マイグレーションとしても知られ,超高周波で薄いメタライゼーションでの疲労損傷形成過程を記述する新たなモデルを提示した。エレクトロマイグレーションにより誘発される損傷構造の相似性は,拡散ベースの物質移動機構が材料での不均一応力によって駆動され,アクティブであることを示唆している。エレクトロマイグレーションでは,損傷形成につながる主要機構は高電流に基づいている。一方,音響マイグレーションでは拡散プロセスが拡散自体よりもはるかに高速に発生する転位機構によって誘導される応力勾配によって駆動される。それにもかかわらず,エレクトロマイグレーションと音響マイグレーションは,材料の押出中に同じ拡散機構を共有し,モデルが示すように,このプロセスは,ステップを決定する寿命を表すことができる。これはエレクトロマイグレーションに関する合金組成と寿命に与える影響から得られた教訓もMEMSと弾性表面波用途に適用可能であり,温度依存性を反映していることを意味する。ただし,転位の駆動力は結晶配向性,材料の減衰係数,転位源の位置に非常に敏感に反応することを主要転位機構に関する詳細な分析は示した。合金化するとより低い温度で物質移動を制限すが,結晶配向性のエンジニアリング,減衰係数,転位源の数は薄膜利用での疲労損傷を防止し,MEMSと弾性表面波デバイスの寿命改善の代替ルートであると思われる。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
機械的性質  ,  固体デバイス材料 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る