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J-GLOBAL ID：201202293644726830   整理番号：12A1243917

UV-VIS分光法,pH及び混成電位測定でモニタリングする銅の無電解めっき液

Electroless Copper Bath Stability Monitoring with UV-VIS Spectroscopy, pH, and Mixed Potential Measurements

著者 (8件)： INOUE Fumihiro (IMEC, Leuven, BEL) ,  INOUE Fumihiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  PHILIPSEN Harold (IMEC, Leuven, BEL) ,  RADISIC Alex (IMEC, Leuven, BEL) ,  ARMINI Silvia (IMEC, Leuven, BEL) ,  CIVALE Yann (IMEC, Leuven, BEL) ,  SHINGUBARA Shoso (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  LEUNISSEN Peter (IMEC, Leuven, BEL)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 7  ページ： D437-D441  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無電解めっき銅析出浴の安定性のモニタリングを種々の方法で行った。無電解銅めっき液は,0.036mol/L硫酸銅,錯形成剤としての0.24mol/L EDTA,還元剤としての0.19mol/Lグリオキシル酸,安定化剤としての2,2′-ビピリジン及び界面活性剤の500ppmポリエチレングリコールからなる。pHはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドで調整した。めっき液の分解を,UV-VIS分光法及びpH測定で調べた。めっき液のpHは時間とともに徐々に減少したが,それは析出反応によりOH^-が消費されること,及びグリオキシル酸のCannizzaro反応によるものである。pH減少とともに,UV-VIS吸収は増加した。これは,Cu-EDTA錯体の吸収に起因する。これらの方法を利用して,調製手順の影響,及び浴安定性を評価した。無電解めっきシード層の欠陥生成を避けるためにpH制御は重要であることを示した。

シソーラス用語： *無電解めっき ,  *銅めっき ,  めっき液 ,  安定性 ,  *pH【水素イオン指数】 ,  調整 ,  Cannizzaro反応 ,  監視 ,  電気測定 ,  電極電位 ,  *紫外可視吸収スペクトル ,  銅錯体 ,  脂肪族アルデヒド ,  脂肪族カルボン酸 ,  脂肪族アミン ,  アミノカルボン酸 ,  ジアミン
準シソーラス用語： pH制御 ,  モニタリング ,  電位測定 ,  混成電位

分類 (2件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (2件)： グリオキシル酸 ,  EDTA

タイトルに関連する用語 (6件)： 分光法 ,  pH ,  電位測定 ,  モニタリング ,  銅 ,  無電解めっき液