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J-GLOBAL ID：201202295554132291   整理番号：12A0834111

O₂,H₂OおよびH₂O+H₂O₂混合気体において反応性スパッタリングにより調製したZrO₂薄膜のイオン伝導率の評価

Evaluation of ion conductivity of ZrO₂ thin films prepared by reactive sputtering in O₂, H₂O, and H₂O+H₂O₂ mixed gas

著者 (5件)： LI Ning (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN) ,  ABE Yoshio (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN) ,  KAWAMURA Midori (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN) ,  KIM Kyung Ho (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN) ,  SUZUKI Tsutomu (Dep. of Biotechnology and Environmental Chemistry, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 16  ページ： 5137-5140  発行年： 2012年06月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： O₂,H₂OおよびH₂O+H₂O₂混合気体において反応性スパッタリングにより水和化ZrO₂薄膜を調製し,薄膜のイオン伝導率に対するスパッタリング雰囲気の効果を調べた。結果は,O₂気体中で堆積した膜が貧弱なイオン伝導率を見せることを示した;しかしながら,他の二種類の雰囲気中で堆積した膜のイオン伝導率は同様で,O₂気体中で堆積した膜のそれより300~500倍高かった。膜のより高いイオン伝導率はより低い膜密度およびより高い水分により生じることを示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *酸化ジルコニウム ,  *混合気体 ,  酸素 ,  水蒸気 ,  過酸化水素 ,  *電気伝導率 ,  雰囲気
準シソーラス用語： *イオン伝導率

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (9件)： O2 ,  H2O ,  混合気体 ,  反応性スパッタリング ,  調製 ,  ZrO2 ,  薄膜 ,  イオン伝導率 ,  評価