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J-GLOBAL ID：201202295759669034   整理番号：12A1712002

プロセスプラズマおよび二次電子ビームエキサイター光放出分光法の比較端点研究

Comparison endpoint study of process plasma and secondary electron beam exciter optical emission spectroscopy

著者 (5件)： STEPHAN THAMBAN P. L. (Dep. of Mechanical Engineering, The Univ. of Texas at Dallas, 800W Campbell Road, Richardson, Texas 75080) ,  YUN Stuart (Dep. of Mechanical Engineering, The Univ. of Texas at Dallas, 800W Campbell Road, Richardson, Texas 75080) ,  PADRON-WELLS Gabriel (Dep. of Electrical Engineering, The Univ. of Texas at Dallas, 800W Campbell Road, Richardson, Texas 75080) ,  HOSCH Jimmy W. (Verity Instruments, Inc., 2901 Eisenhower Street, Carrollton, Texas 75007) ,  GOECKNER Matthew J. (Dep. of Mathematical Sciences, The Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell Road, Richardson, Texas 75080)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 6  ページ： 061303-061303-8  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 伝統的にプロセスプラズマはしばしば光放出分光法により研究され,観測されている。ここで著者らは,二次電子ビーム励起および直接プロセスプラズマ励起からの実験測定を比較して,プロセスプラズマの研究におけるその特殊性を検討し,例証した。SF₆放電におけるエッチ過程排出物の励起,そして暗プラズマ過程条件における端点検出能力を示す結果を紹介する。SF₆放電では,プロセス放出では見えない,300nm周辺のバンドが観察され,それはポリシリコンエッチ中のエッチ生成物放出のよい指標として役立つことができる。文献に報告されている以前の研究に基づいて,著者らはこのバンドがSiF₄気相化学種に起因すると考えている。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *発光分光法 ,  *プラズマ分光 ,  電子ビーム ,  フッ化硫黄 ,  FTIR分光法 ,  誘導結合プラズマ ,  プラズマエッチング ,  *プラズマ処理 ,  プラズマ装置 ,  ポリシリコン

分類 (3件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W)

タイトルに関連する用語 (7件)： プロセス ,  プラズマ ,  電子ビーム ,  エキサイター ,  光放出 ,  分光法 ,  研究