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J-GLOBAL ID：201202296233660403   整理番号：12A0937317

アニーリング処理の際の分子配向ランダム化の動力学のin-situ分光偏光解析法によるリアルタイム測定

Real-Time Measurement of Molecular Orientational Randomization Dynamics during Annealing Treatments by In-Situ Ellipsometry

著者 (4件)： KOMINO Takeshi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  NOMURA Hiroko (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  YAHIRO Masayuki (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  ADACHI Chihaya (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 21  ページ： 11584-11588  発行年： 2012年05月31日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 分光偏光解析法による分子配向の変化の観察によって,低分子有機低分子薄膜でのガラス転移温度(Tg)の分布について研究した。室温でSi(100)面上にスピロフルオレン誘導体,2,7-ビス(4′-へキシル-[1,1′ビフェニル]-4-イル)-9,9′-スピロビ[フルオレン](BHBBPF)と4,4′-(9,9′-スピロビ-[フルオレン]-2,7-ジイル)ビス(N,N-ジフェニルアニリン)(SFBDPA)を真空蒸着し,分子が基板に対して平行に配向した非晶質薄膜を形成した。リアルタイムin situ分光偏光解析法を使用して低分子有機低分子薄膜のアニーリングの際の分子配向ランダム化動力学について研究した。BHBBPFとSFBDPAの薄膜を熱処理すると分子配向のランダム化が表面からバルクへ進展し,ランダム化が薄膜の厚さに依存することがわかった。表面のTgはバルクのTgよりもそれぞれ,8,26K低下した。加熱された基板上でこれらの薄膜を形成すると,基板温度がDSC測定によるバルクのTg以下であっても分子配向のランダム化が容易に起こると推定した。

シソーラス用語： *分子配向 ,  *偏光解析法 ,  ガラス転移点 ,  薄膜 ,  真空蒸着 ,  薄膜成長 ,  示差走査熱量測定 ,  *焼なまし ,  芳香族縮合炭化水素
準シソーラス用語： フルオレン誘導体 ,  非晶質薄膜 ,  *分光偏光解析法

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： 2,7-ビス(4′-ヘキシル-1,1′-ビフェニル-4-イル)-9,9′-スピロビ[9H-フルオレン] ,  3,7-ビス[4-(ジフェニルアミノ)フェニル]-9,9′-スピロビ[9H-フルオレン]

タイトルに関連する用語 (6件)： アニーリング処理 ,  分子配向 ,  ランダム化 ,  動力学 ,  分光偏光解析法 ,  リアルタイム