特許
J-GLOBAL ID:201203000030310129
基板クリーニング装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 南山 知広
, 河合 章
, 中村 健一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-247720
公開番号(公開出願番号):特開2012-099732
出願日: 2010年11月04日
公開日(公表日): 2012年05月24日
要約:
【課題】基板の表面の異物をより確実に除去できる基板クリーニング装置を提供する。【解決手段】基板クリーニング装置1は、基板11を往復移動可能な基板搬送部12と、基板搬送部12により移動される基板11の表面の異物を除去するローラユニット13と、基板搬送部12及びローラユニット13を制御するPLC14と、を備える。PLC14は、基板11を前進又は後進させるように基板搬送部12を制御して、基板11を、クリーニング回数に応じた移動回数分ローラユニット13を通過させる。基板搬送部12は、基板11を搬送するベルト21a,21bと、ベルト21a,21bを支持するプーリー22a,22b,22c,22dと、プーリー22a,22b,22c,22dを回転させるリバーシブルモータ23と、を有し、プーリー22a,22b,22c,22dの回転方向が切り換え可能である。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基板を往復移動可能な基板搬送部と、
前記基板搬送部により移動される前記基板の表面の異物を除去する異物除去部と、
前記基板搬送部及び前記異物除去部を制御する制御部と、を備える基板クリーニング装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (13件):
3B116AA02
, 3B116AB14
, 3B116BA02
, 3B116BA15
, 3B116BB72
, 3B116BB75
, 3B116BC07
, 3B116CD42
, 3B116CD43
, 5E343EE03
, 5E343EE15
, 5E343FF23
, 5E343GG20
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特許第4326472号
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基板洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-035632
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-232404
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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