特許

J-GLOBAL ID：201203001634281409

反射防止膜

発明者： 中山 慶祐 ,  渡邊 良祐 ,  宮野 健次郎
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学 ,  JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-135152
公開番号（公開出願番号）：特開2012-002865
出願日： 2010年06月14日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：

【課題】幅広い波長範囲において優れた反射防止性能を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】光電変換素子10は、半導体基板20と、半導体基板20に積層された反射防止膜30とを備える。反射防止膜30は、第1の膜32と第2の膜34とが積層された透明性を有する積層膜である。第1の膜32と第2の膜34との界面に、複数の金属ナノ粒子36が2次元配列されている。複数の金属ナノ粒子36は、基材との接触面となる第1の膜32の主表面から5〜80nmだけ離れている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一方の主表面が基材との接触面として用いられる透明膜と、 前記透明膜の中に2次元配列して埋め込まれた複数の金属ナノ粒子と、 を備え、 前記透明膜の一方の主表面と前記複数の金属ナノ粒子との間隔が5〜80nmであることを特徴とする反射防止膜。

IPC (2件)：

G02B 1/11 ,  H01L 31/04

FI (2件)：

G02B1/10 A ,  H01L31/04 F

Fターム (14件)：

2K009AA06 ,  2K009BB04 ,  2K009CC03 ,  2K009CC14 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD06 ,  5F151AA08 ,  5F151DA03 ,  5F151GA04 ,  5F151HA03 ,  5F151HA06 ,  5F151HA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-121156
  
• 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-304501   出願人：日揮触媒化成株式会社