特許
J-GLOBAL ID：201003093959030744
反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
牧村 浩次
, 高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-304501
公開番号（公開出願番号）：特開2010-128309
出願日： 2008年11月28日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：
【課題】表面が平坦で、低反射率であるとともに耐擦傷性、スクラッチ強度に優れた反射防止膜を有する反射防止膜付基材を提供する。【解決手段】基材上に反射防止膜が形成された反射防止膜付基材であって、該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、反射防止膜の膜厚(Th)が80〜200nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付基材。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材上に反射防止膜が形成された反射防止膜付基材であって、
該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、
反射防止膜の膜厚(Th)が80〜200nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)
が0.75〜1の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付基材。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, B32B 7/02
, B32B 9/00
G02B1/10 A
, B32B7/02 103
, B32B9/00 A
2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009CC09
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 4F100AA20B
, 4F100AJ06
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100DE04B
, 4F100GB90
, 4F100JN06B
, 4F100YY00B
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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