特許
J-GLOBAL ID：201203004998827953
エッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-023004
公開番号（公開出願番号）：特開2012-164766
出願日： 2011年02月04日
公開日（公表日）： 2012年08月30日
要約：
【課題】面内均一性の向上を図ることができる容量結合型のエッチング装置を提供する。【解決手段】エッチング装置1は、真空槽10と、真空槽内にエッチングガスを供給するガス供給部10eと、真空槽内に配置されて、その上面に基板Sbが載置される平板状のステージ電極13と、ステージ電極13とプラズマ生成空間Sを介して対向する平板状の上部電極板17と、ステージ電極13に高周波電力を供給する高周波電源20と、直径がそれぞれ異なる3本の環状の磁気コイル31〜33から構成され、それらの磁気コイル31〜33の中心が同軸となるように真空槽10の上方に設けられるとともに、最も外側の磁気コイル31の直径が基板Sbの直径よりも大きく、中央の磁気コイル32の直径が基板Sbの直径以下であって、プラズマ生成空間Sに磁気中性線NLを生成する磁気コイル群30とを備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空槽と、
前記真空槽内にエッチングガスを供給するガス供給部と、
前記真空槽内に配置されて、その上面に基板が載置される平板状の第1電極と、
前記第1の電極とプラズマ生成空間を介して対向する平板状の第2電極と、
前記第1電極又は前記第2電極に高周波電力を供給する高周波電源と、
直径がそれぞれ異なる3本の環状の磁気コイルから構成され、それらの磁気コイルの中心が同軸となるように前記真空槽の上方に設けられるとともに、最も外側の磁気コイルの直径が前記基板の直径よりも大きく、中央の前記磁気コイルの直径が前記基板の直径以下であって、前記プラズマ生成空間に磁気中性線を生成する磁場発生手段とを備えたことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101B
, H05H1/46 M
5F004AA01
, 5F004BA08
, 5F004BB07
, 5F004BB13
, 5F004BB18
, 5F004BB23
, 5F004DA00
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F004DA26
, 5F004DB01
