特許
J-GLOBAL ID:201203007210763967
スパッタ源終端検出機構およびスパッタ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
磯野 道造
, 多田 悦夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-116907
公開番号(公開出願番号):特開2012-246509
出願日: 2011年05月25日
公開日(公表日): 2012年12月13日
要約:
【課題】簡素な構成として、既存のスパッタ装置に容易に搭載可能であって、スパッタ源であるターゲットをスパッタ装置に取り付けた状態で、孔の開く直前の限界まで使用することが可能となるスパッタ源終端検出機構を提供する。【解決手段】ターゲット終端検出器10は、スパッタ装置のターゲットホルダ25の表面に形成された溝25cに収納されて、その上に載置されているターゲットT1の裏面に光を照射する導光体11と、導光体11に接続した光源12とを備え、導光体11は、ターゲットT1におけるスパッタ装置により消費される部位の裏側に配置され、ターゲットT1が薄肉化して孔の開く直前になると、導光体11から発光した光がターゲットT1を透過して、表面側で検知されることを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
スパッタ装置の処理室に設置されているスパッタ源の裏面に光を照射する投光手段を備え、
前記投光手段は、前記スパッタ装置により消費される前記スパッタ源の部位における裏側に配置されていることを特徴とするスパッタ源終端検出機構。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (4件):
4K029DA03
, 4K029DC21
, 4K029DC37
, 4K029DC39
引用特許:
審査官引用 (2件)
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マグネトロンスパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-161922
出願人:関西日本電気株式会社
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特開平3-180469
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