特許

J-GLOBAL ID：201203007541706831

高分子膜及びガスバリア材

発明者： 百武 壮 ,  道信 剛志 ,  李 永榮
出願人/特許権者： 独立行政法人土木研究所
代理人 (1件)： 塩田 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-242549
公開番号（公開出願番号）：特開2012-092269
出願日： 2010年10月28日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：

【課題】ガスバリア性を有し、成型加工性が良好な高分子膜及びガスバリア材を提供する。【解決手段】高分子膜は、下記一般式(1)で表される化合物を含み、ガスバリア材として用いる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される化合物を含み、ガスバリア材として用いられることを特徴とする高分子膜。

IPC (3件)：

C08J 5/18 ,  C08F 38/02 ,  C08F 8/30

FI (3件)：

C08J5/18 ,  C08F38/02 ,  C08F8/30

Fターム (42件)：

4F071AA12 ,  4F071AA15 ,  4F071AA20 ,  4F071AA22 ,  4F071AA24 ,  4F071AA25 ,  4F071AA28 ,  4F071AA29 ,  4F071AA32 ,  4F071AA33 ,  4F071AA34 ,  4F071AA35 ,  4F071AA38 ,  4F071AA40 ,  4F071AA48 ,  4F071AA50 ,  4F071AA51 ,  4F071AA53 ,  4F071AA56 ,  4F071AA60 ,  4F071AA62 ,  4F071AA64 ,  4F071AA67 ,  4F071AA78 ,  4F071AF08 ,  4F071AH02 ,  4F071AH04 ,  4F071AH19 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4J100AT13P ,  4J100BA31P ,  4J100BA40H ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA31 ,  4J100DA22 ,  4J100DA31 ,  4J100DA36 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100HC59

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 電子状態の制御された共役高分子化合物及びそれを用いた有機半導体材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-121632   出願人：国立大学法人東京農工大学
• ガスバリア性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-004017   出願人：旭化成ケミカルズ株式会社
• ガスバリア性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-057660   出願人：株式会社クラレ
• 特開昭63-277764
  
• 特開平4-174587
  

審査官引用 (5件)

• 電子状態の制御された共役高分子化合物及びそれを用いた有機半導体材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-121632   出願人：国立大学法人東京農工大学
• ガスバリア性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-004017   出願人：旭化成ケミカルズ株式会社
• ガスバリア性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-057660   出願人：株式会社クラレ
• 特開昭63-277764
  
• 特開平4-174587
  

引用文献：

出願人引用 (1件)

• The reactions of some σ-alkynylnickel complexes with 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane

審査官引用 (1件)

• The reactions of some σ-alkynylnickel complexes with 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane