特許

J-GLOBAL ID：201203009207762774

水処理方法及び水処理装置

発明者： 横山 祐三
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
代理人 (2件)： 杉本 勝徳 ,  岡田 充浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-105855
公開番号（公開出願番号）：特開2012-236131
出願日： 2011年05月11日
公開日（公表日）： 2012年12月06日
要約：

【課題】より処理性能の高い水処理方法及びこの水処理方法に用いる水処処理装置を提供することを目的としている。【解決手段】容器2に設けられた円筒状電極3と、円筒状電極3の内部を貫通するように配置された線状電極4との間に高電圧を印加することによって、円筒状電極3と線状電極4との間にストリーマ放電を生じさせ、噴射ノズル7から被処理水を1500μm以下の水滴にしてミスト状に容器2内に供給してストリーマ放電によって生じたオゾンを含む活性種によって被処理水中の被処理物質を分解処理するとともに、容器2内を通過した水滴を一次処理水Wbとして一次処理水タンクTbに貯めたのち、一次処理水Wbを被処理原水Waと混合してこの混合水を再び被処理水として噴射ノズル7から容器2内に噴射するようにした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

円筒状電極と、円筒状電極の内部を貫通するように配置された線状電極とを少なくともなくとも1対有するとともに、前記円筒状電極と線状電極との間に高電圧を印加することによって生じるストリーマ放電空間内に被処理水を1500μ以下の水滴にして供給し、水滴中の被処理物質を分解処理するようにした水処理方法であって、 前記被処理水が前記ストリーマ放電空間を通過して得られた一次処理水を、被処理原水に混合し、被処理原水とともに、被処理水として再び前記ストリーマ放電空間内に水滴化して供給することを特徴とする水処理方法。

IPC (1件)：

C02F 1/48

FI (1件)：

C02F1/48 B

Fターム (17件)：

4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061DC13 ,  4D061EA13 ,  4D061EB02 ,  4D061EB07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB20 ,  4D061EB28 ,  4D061EB33 ,  4D061EB34 ,  4D061EB35

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-289467   出願人：積水化学工業株式会社