特許
J-GLOBAL ID:200903077158165722

水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉本 勝徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-289467
公開番号(公開出願番号):特開2009-241055
出願日: 2008年11月12日
公開日(公表日): 2009年10月22日
要約:
【課題】放電によって発生するラジカル等の活性種を被処理水に効率よく作用させて、処理速度を向上させることができる水処理装置を提供することを目的としている。【解決手段】少なくとも1対の円筒状電極3と、この円筒状電極3の円筒内を臨むように配置された線状電極4とを容器2内に有するとともに、円筒状電極3と線状電極4との間に高電圧を印加することによって生じる放電空間内に被処理水を粒径が1500μm以下の水滴からなるミスト状態にして供給する被処理水ミスト供給手段7とを備えていることを特徴としている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも1対の、円筒状電極とこの円筒状電極の円筒内を臨むように配置された線状電極とを容器内に有するとともに、 前記円筒状電極と線状電極との間に高電圧を印加することによって生じる放電空間内に被処理水を粒径が1500μm以下の水滴からなるミスト状態にして供給する被処理水ミスト供給手段とを備えていることを特徴とする水処理装置。
IPC (1件):
C02F 1/48
FI (1件):
C02F1/48 B
Fターム (15件):
4D061DA01 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC06 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB02 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB20 ,  4D061EB28 ,  4D061EB33 ,  4D061EB35
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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