特許
J-GLOBAL ID：201203009642900526

誘導結合プラズマ処理装置

発明者：
佐々木 和男

佐々木 和男 について

, 
東条 利洋

東条 利洋 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-095155
公開番号（公開出願番号）：特開2012-227428
出願日： 2011年04月21日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：
【課題】 被処理基板の大型化に対応して誘電体窓部を一辺当たり三以上に分割して従来技術よりも多数の分割片に分割した場合でも、処理室内に強いプラズマを発生させることが可能な誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 処理室内のプラズマ生成領域に誘導結合プラズマを発生させる高周波アンテナ11a〜11cと、プラズマ生成領域と高周波アンテナ11a〜11cとの間に配置され、複数の誘電部材3a〜3hと、該複数の誘電部材3a〜3hを支持する導電性梁7とを含む誘電体窓部3を備え、導電性梁7が誘電体窓部3を一辺当たり三以上に分割し、かつ、導電性梁7には、導電性梁7が誘電体窓部3を一辺当たり三以上に分割したときに誘電体窓部3の中央部分に高周波アンテナ11a、11bに沿って生じる閉ループ回路200がない。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理室内のプラズマ生成領域に誘導結合プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理する誘導結合プラズマ処理装置であって、 前記プラズマ生成領域に前記誘導結合プラズマを発生させる高周波アンテナと、 前記プラズマ生成領域と前記高周波アンテナとの間に配置され、複数の誘電部材と、該複数の誘電部材を支持する導電性梁とを含む誘電体窓部を備え、 前記導電性梁が前記誘電体窓部を一辺当たり三以上に分割し、 かつ、前記導電性梁には、前記導電性梁が前記誘電体窓部を一辺当たり三以上に分割したときに前記誘電体窓部の中央部分に前記高周波アンテナに沿って生じる閉ループ回路がないことを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/507
FI (4件)：
H01L21/302 101C ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 L ,  C23C16/507
Fターム (15件)：
4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA04 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  4K030LA18 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045EF01 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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