特許

J-GLOBAL ID：201203020179726221

炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法及び炭化ケイ素ナノ粒子分散液並びに炭化ケイ素ナノ粒子膜

発明者： 大塚 剛史 ,  小西 幹郎 ,  吉岡 良樹
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-197385
公開番号（公開出願番号）：特開2012-246220
出願日： 2012年09月07日
公開日（公表日）： 2012年12月13日
要約：

【課題】炭化ケイ素ナノ粒子同士の凝集を抑制することにより分散性及び分散安定性を向上させることが可能な炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法及び炭化ケイ素ナノ粒子分散液、この炭化ケイ素ナノ粒子分散液を用いて得られる耐摩耗性、耐擦傷性、耐熱性、硬質性に優れた炭化ケイ素ナノ粒子膜を提供する。【解決手段】本発明の炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法は、熱プラズマ法またはシリカ前駆体焼成法により作製され、一次粒子の平均粒子径が5nm以上かつ500nm以下の炭化ケイ素ナノ粒子1の表面に酸化処理を施して表面酸化層3を形成し、次いで、この炭化ケイ素ナノ粒子1の表面酸化層3を、フッ酸、フッ化アンモニウム、硝酸の群から選択された1種または2種以上を含む溶液を用いて溶解することにより除去し、次いで、この表面酸化層3が除去された炭化ケイ素ナノ粒子11を分散媒4中に分散させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

熱プラズマ法またはシリカ前駆体焼成法により作製され、一次粒子の平均粒子径が5nm以上かつ500nm以下の炭化ケイ素ナノ粒子の表面に酸化処理を施して表面酸化層を形成し、次いで、この炭化ケイ素ナノ粒子の表面酸化層を、フッ酸、フッ化アンモニウム、硝酸の群から選択された1種または2種以上を含む溶液を用いて溶解することにより除去し、次いで、この表面酸化層が除去された炭化ケイ素ナノ粒子を分散媒中に分散させることを特徴とする炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 31/36 ,  C09D 1/00 ,  C09D 7/12

FI (3件)：

C01B31/36 601 ,  C09D1/00 ,  C09D7/12

Fターム (32件)：

4G146MA14 ,  4G146MB02 ,  4G146MB03 ,  4G146MB07 ,  4G146MB18A ,  4G146MB30 ,  4G146PA06 ,  4G146PA07 ,  4G146PA11 ,  4G146PA15 ,  4J038AA011 ,  4J038CG031 ,  4J038DB231 ,  4J038DG191 ,  4J038FA111 ,  4J038FA251 ,  4J038HA431 ,  4J038JA05 ,  4J038JA17 ,  4J038JA20 ,  4J038JA25 ,  4J038JA32 ,  4J038JA55 ,  4J038JB12 ,  4J038KA06 ,  4J038KA20 ,  4J038NA11 ,  4J038NA14 ,  4J038NA25 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-011514
  
• 特許第3023435号
  
• 排気フューム浄化装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平5-518224   出願人：スベンスカエミッションズテクニクアクチボラグ
• セラミック膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-158191   出願人：工業技術院長