特許

J-GLOBAL ID：201203021717783202

塩、フォトレジスト組成物及レジストパターンの製造方法

発明者： 安立 由香子 ,  市川 幸司 ,  平岡 崇志
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-163944
公開番号（公開出願番号）：特開2012-046501
出願日： 2011年07月27日
公開日（公表日）： 2012年03月08日
要約：

【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)を有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩。[式中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す;L1は、2価の炭素数2〜17の飽和炭化水素基を表し、前記2価の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、オキシ基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい;R1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を表す;Z1+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (8件)：

C07C 309/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  C07D 327/08 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C07C309/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  C07D327/08 ,  H01L21/30 502R

Fターム (24件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB80

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 塩基性化合物、感放射線性酸拡散制御剤及びポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-300865   出願人：JSR株式会社

審査官引用 (1件)

• 塩基性化合物、感放射線性酸拡散制御剤及びポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-300865   出願人：JSR株式会社