特許
J-GLOBAL ID：200903060398479228

塩基性化合物、感放射線性酸拡散制御剤及びポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者：
米田 英司

米田 英司 について

, 
下川 努

下川 努 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 清路 ,  早川 大刀夫 ,  萩野 義昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-300865
公開番号（公開出願番号）：特開2007-106717
出願日： 2005年10月14日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：
【課題】遠紫外線、電子線、X線等の各種の放射線を使用する微細加工に有用なポジ型感放射線性樹脂組成物における酸拡散制御剤として好適な塩基性化合物等を提供する。【解決手段】本塩基性化合物は、下記一般式(1)で表されるオニウム塩からなる。〔式中、Z1及びZ2の少なくとも一方はフッ素原子又は炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、R1は同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基を表すか、又は、2つのR1が結合している窒素原子を含めて環を形成している。Aは2価の有機基若しくは単結合を表し、M+はスルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオン等を示す。〕【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるオニウム塩からなることを特徴とする塩基性化合物。
IPC (6件)：
C07C 309/14 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C07C 19/07
FI (6件)：
C07C309/14 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C07C19/07
Fターム (17件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006EA02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM