特許

J-GLOBAL ID：201203025231365625

触媒、及び該触媒を用いたポリマーの製造方法

発明者： 大久保 泰宏 ,  南部 宏暢 ,  福岡 淳 ,  原 賢二 ,  赤羽 紗以子
出願人/特許権者： 太陽化学株式会社 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (1件)： 小林 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-195364
公開番号（公開出願番号）：特開2012-052012
出願日： 2010年09月01日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：

【課題】 メソポーラスシリカの細孔壁の外表面を選択的に有機基で修飾し、内表面選択的に触媒活性種を導入することにより、触媒反応を行う際の反応場をメソポーラスシリカの細孔内部に限定して触媒反応を行わせることが可能な触媒を提供すること。【解決手段】 細孔とこの細孔を形成する細孔壁とを備えたメソポーラスシリカにおいて、前記細孔壁の外表面は触媒反応を規制するために選択的に有機物によって修飾されている一方、前記細孔壁の内表面には選択的に触媒活性種が固定されていることを特徴とする触媒によって達成される。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

細孔とこの細孔を形成する細孔壁とを備えたメソポーラスシリカにおいて、前記細孔壁の外表面は触媒反応を規制するために選択的に有機物によって修飾されている一方、前記細孔壁の内表面には選択的に触媒活性種が固定されていることを特徴とする触媒。

IPC (2件)：

C08G 65/44 ,  C01B 37/02

FI (2件)：

C08G65/44 ,  C01B37/02

Fターム (6件)：

4G073CZ54 ,  4G073GA13 ,  4G073UA01 ,  4J005AA26 ,  4J005BB02 ,  4J005BD01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• NOx還元触媒、その製造方法、並びにその触媒の使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-264565   出願人：株式会社日立製作所, 国立大学法人北海道大学