特許
J-GLOBAL ID:201203026176560347
ブロック共重合体を用いてホール又はビアを有するデバイスを形成する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上野 剛史
, 太佐 種一
, 市位 嘉宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-511217
公開番号(公開出願番号):特表2012-527752
出願日: 2010年04月23日
公開日(公表日): 2012年11月08日
要約:
【課題】 ブロック共重合体を用いて所定の位置にホール又はビアを有するデバイスを形成する方法を提供する。【解決手段】 例えば、光リソグラフィを用いて、輪郭を付けられた凸状のセグメントによって与えられる断面を有する開口部を基板内に形成する。開口部の断面は、例えば、重なった円形領域によって与えることができる。側壁は、種々の点で隣接し、そこで突起を画定する。ブロック共重合体を含むポリマーの層を開口部及び基板の上に塗布し、自己集合させる。開口部内に個別分離ドメインが形成され、これらを除去してホールを形成し、これを下層の基板に転写することができる。これらのドメイン及びこれらの対応するホールの位置は、側壁及びそれらに付随する突起によって所定の位置に誘導される。これらのホールを隔てる距離は、何も側壁がない場合にブロック共重合体(及び何れかの添加剤)が自己集合したとする場合よりも大きく又は小さくすることができる。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
内部に開口部がある表面を有する基板であって、前記開口部は凸状の輪郭を付けられた側壁を含み、前記側壁はそれらが隣接する場所において突起を画定し、前記側壁は前記基板の表面において、それぞれの平均曲率半径が100nm未満であるそれぞれのセグメントによって与えられる断面を有する、前記基板を準備するステップと、
前記表面の上に、ブロック共重合体を含むポリマーであって、前記共重合体の成分は互いに混じり合わない、ポリマーの層を塗布するステップと、
前記ポリマーが、前記開口部の内部に複数の個別分離ドメインを形成できるようにするステップと、
を含み、
i)前記各々の個別分離ドメインの位置は、少なくとも1つの側壁と、前記少なくとも1つの側壁の少なくとも一部分に形成される突起とによって予め決定され、
ii)前記ドメインはそれぞれの幾何学的中心を有し、任意の所与のドメインに関して、その中心と、前記所与のドメインの最隣接ドメインの中心とは、a)前記所与のドメインの前記位置を予め決定する前記少なくとも1つの側壁に対応するセグメントの平均曲率半径(又は前記セグメントの前記平均曲率半径の平均値)と、b)前記所与のドメインの最隣接ドメインの前記位置を予め決定する前記少なくとも1つの側壁に対応するセグメントの平均曲率半径(又は前記セグメントの前記平均曲率半径の平均値)との和よりも小さい距離だけ隔てられる、
方法。
IPC (5件):
H01L 23/522
, H01L 21/768
, B82Y 40/00
, H01L 21/027
, H01L 21/312
FI (5件):
H01L21/90 B
, H01L21/90 D
, B82Y40/00
, H01L21/30 570
, H01L21/312 D
Fターム (25件):
5F033GG00
, 5F033GG01
, 5F033GG02
, 5F033GG03
, 5F033JJ07
, 5F033QQ01
, 5F033QQ02
, 5F033QQ09
, 5F033QQ13
, 5F033QQ26
, 5F033QQ37
, 5F033QQ73
, 5F033QQ74
, 5F033RR21
, 5F033SS21
, 5F033XX03
, 5F058AC06
, 5F058AC10
, 5F058AD07
, 5F058AD12
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH02
, 5F058AH05
, 5F146LA18
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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