特許
J-GLOBAL ID:201203027150339630

放射性物質処理剤の製造方法、放射性物質処理剤、並びに、該放射性物質処理剤を用いた処理方法及び処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 英一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-130694
公開番号(公開出願番号):特開2012-247405
出願日: 2011年06月10日
公開日(公表日): 2012年12月13日
要約:
【課題】放射性物質の吸着速度が速く、放射性汚染水の処理効率に優れ、多岐に亘る被処理物を処理できる放射性物質処理剤の製造方法、及び放射性物質処理剤の提供。【解決手段】平均粒径5.0μm以下のモルデナイトからなる天然ゼオライト微粒子を分散手段によって水中に分散してスラリー分散微粒子を生成するスラリー分散微粒子生成工程を有することを特徴とする放射性物質処理剤の製造方法、及び、該製造方法によって得られることを特徴とする放射性物質処理剤。【選択図】図1
請求項(抜粋):
平均粒径5.0μm以下のモルデナイトからなる天然ゼオライト微粒子を分散手段によって水中に分散してスラリー分散微粒子を生成するスラリー分散微粒子生成工程を有することを特徴とする放射性物質処理剤の製造方法。
IPC (4件):
G21F 9/12 ,  G21F 9/16 ,  G21F 9/02 ,  C01B 39/26
FI (5件):
G21F9/12 501F ,  G21F9/12 501J ,  G21F9/16 541B ,  G21F9/02 511A ,  C01B39/26
Fターム (7件):
4G073BD21 ,  4G073CZ07 ,  4G073FD04 ,  4G073FD25 ,  4G073GA11 ,  4G073UA06 ,  4G073UB48
引用特許:
審査官引用 (11件)
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