局所露光装置及び局所露光方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木下茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-148484
公開番号（公開出願番号）：特開2012-013814
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。【解決手段】基板搬送手段20と、被処理基板Gに対する露光処理空間を形成するチャンバ8と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Lを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源4と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部9と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段30と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部40とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板に形成された感光膜の所定領域に対し、露光処理を施す局所露光装置であって、基板搬送路を形成し、前記被処理基板を前記基板搬送路に沿って平流し搬送する基板搬送手段と、前記基板搬送路の所定区間を覆うと共に前記被処理基板に対する露光処理空間を形成するチャンバと、前記チャンバ内かつ前記基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子を有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部と、前記基板搬送路において前記光源よりも上流側に配置され、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記基板検出手段による基板検出信号と基板搬送速度とに基づき基板搬送位置を取得し、前記被処理基板に形成された感光膜の所定領域が前記光源の下方を通過する際、前記ライン状に配列された複数の発光素子のうち、前記所定領域に照射可能な発光素子のみが発光するよう前記発光駆動部を制御することを特徴とする局所露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027 , G02F 1/134

FI (3件)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 570 , G02F1/1343

Fターム (15件)：

2H092MA16 , 2H092MA35 , 2H092NA27 , 2H097AA03 , 2H097AB07 , 2H097CA03 , 2H097CA12 , 2H097JA04 , 2H097LA12 , 5F046DA30 , 5F046DB14 , 5F046LA18 , 5F146DA30 , 5F146DB14 , 5F146LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

直描露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-278784 出願人：株式会社アドテックエンジニアリング
露光装置および露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-045065 出願人：シャープ株式会社
画像露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-141265 出願人：富士フイルム株式会社

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