特許
J-GLOBAL ID：201203034905151889

ロードロック装置および真空処理装置

発明者：
吉村 浩司

吉村 浩司 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (6件)： 日向寺 雅彦 ,  小崎 純一 ,  市川 浩 ,  本間 惣一 ,  日比野 幸信 ,  白井 達哲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-291683
公開番号（公開出願番号）：特開2012-138551
出願日： 2010年12月28日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：
【課題】被処理体を安定して保持することが可能なロードロック装置と、このロードロック装置が付設された真空処理装置を提供する。【解決手段】真空槽の内外に真空槽内の減圧状態を維持したまま基板を搬入出可能なロードロック装置であって、基板を載置する凹部を有するトレイを支持することが可能な支持台と、基板を保持する蓋部と、を備え、真空槽には、基板を搬入出する開口が設けられ、真空槽の開口は、真空槽外部から蓋部によって閉塞され、真空槽内部より支持台によって閉塞することで、真空槽の壁、蓋部、および支持台によって真空槽の外部および内部から遮蔽された閉塞空間が形成され、閉塞空間を大気圧とする通気手段と、閉塞空間を減圧する排気手段と、を、さらに備え、蓋部は、閉塞空間を形成しているときに基板を載置するトレイの凹部より外側に位置する複数の保護部材を有するロードロック装置が提供される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空槽の内外に前記真空槽内の減圧状態を維持したまま基板を搬入出可能なロードロック装置であって、 前記基板を載置する凹部を有するトレイを支持することが可能な支持台と、 前記基板を保持する蓋部と、 を備え、 前記真空槽には、前記基板を搬入出する開口が設けられ、 前記真空槽の前記開口において、前記真空槽外部から前記蓋部によって閉塞され、前記真空槽内部より前記支持台によって閉塞させることで、前記真空槽の壁、前記蓋部、および前記支持台によって前記真空槽の外部および内部から遮蔽された閉塞空間が形成され、 前記閉塞空間を大気圧とする通気手段と、 前記閉塞空間を減圧する排気手段と、 を、さらに備え、 前記蓋部は、前記閉塞空間が形成されているときに、前記基板を載置する前記トレイの前記凹部より外側に位置する複数の保護部材を有していることを特徴とするロードロック装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  C23C 14/56
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  B65G49/07 C ,  C23C14/56 G
Fターム (17件)：
4K029AA24 ,  4K029CA05 ,  4K029KA01 ,  4K029KA05 ,  4K029KA09 ,  5F031CA01 ,  5F031CA04 ,  5F031DA13 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA35 ,  5F031GA47 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA20
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 多層膜の形成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-399048   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
審査官引用 (7件)
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