特許

J-GLOBAL ID：201203039953196748

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法

発明者： 丸山 研
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (7件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  奥谷 優 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  森田 慶子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-040777
公開番号（公開出願番号）：特開2012-177801
出願日： 2011年02月25日
公開日（公表日）： 2012年09月13日
要約：

【課題】感度、解像性、LWR及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。【解決手段】式(1)で表される構造単位、式(2)で表される構造単位及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、並びに酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]下記式(1)で表される構造単位(I)、式(2)で表される構造単位(II)及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、並びに [B]感放射線性酸発生体 を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/38

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/38

Fターム (41件)：

2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF41P ,  2H125AH12 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ70X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC49R ,  4J100BC84P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA28 ,  4J100FA30 ,  4J100GC07 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-056809   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-151013   出願人：東京応化工業株式会社