特許
J-GLOBAL ID：201103053910971204

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物

発明者：
平野 智之

平野 智之 について

, 
塩野 大寿

塩野 大寿 について

, 
新井 雅俊

新井 雅俊 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-151013
公開番号（公開出願番号）：特開2011-158879
出願日： 2010年07月01日
公開日（公表日）： 2011年08月18日
要約：
【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分(A’)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A’)が、一般式(a0-1)で表される構成単位(a0-1)と、露光により酸を発生する構成単位(a0-2)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物[式中、R1は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、R2は2価の連結基であり、R3は、その環骨格中に-SO2-を含む環式基である。]。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分(A’)を含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記基材成分(A’)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0-1)と、露光により酸を発生する構成単位(a0-2)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/38
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/38
Fターム (72件)：
2H125AF15P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH13 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH20 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ70X ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA40P ,  4J100BA50Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC02R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04R ,  4J100BC07R ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC43Q ,  4J100BC49Q ,  4J100BC53S ,  4J100BC83Q ,  4J100BC84P ,  4J100BD10R ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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