特許
J-GLOBAL ID：201203041971971001

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者：
井上 尚紀

井上 尚紀 について

, 
椿 英明

椿 英明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-238031
公開番号（公開出願番号）：特開2012-093398
出願日： 2010年10月22日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：
【課題】高感度、高解像性、及び、優れた露光ラチチュードを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)有する樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射によりビス(アルキルスルホニル)アミドを発生する、前記樹脂(P)とは異なる化合物(B)とを含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射によりビス(アルキルスルホニル)アミドを発生する、前記樹脂(P)とは異なる化合物(B)とを含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/14
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/14
Fターム (49件)：
2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ70X ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07S ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA55S ,  4J100BB12S ,  4J100BC42Q ,  4J100BC44R ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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