特許

J-GLOBAL ID：200903052534595595

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物

発明者： 和田 健二
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-009840
公開番号（公開出願番号）：特開2009-093137
出願日： 2008年01月18日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：

【課題】通常露光(ドライ露光)、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/38

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10 ,  G03F7/38 501

Fターム (40件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA04 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096EA12 ,  2H096GA09 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC28S ,  4J100BC36R ,  4J100BC36S ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA37

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特開昭57-153433号公報
  
• パターン形成方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
• 国際公開第04-077158号パンフレット
  
• 国際公開第04-068242号パンフレット
  
• レジストパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-175821   出願人：学校法人東京電機大学

審査官引用 (1件)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-351839   出願人：住友化学株式会社