特許
J-GLOBAL ID：201203044764686002

耐疲労損傷性ワイヤおよびその製造方法

発明者：
シャッファー,ジェレミー,イー.

シャッファー,ジェレミー,イー. について


出願人/特許権者：
フォート ウェイン メタルス リサーチ プロダクツ コーポレーション

フォート ウェイン メタルス リサーチ プロダクツ コーポレーション について


代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-527075
公開番号（公開出願番号）：特表2012-502190
出願日： 2009年09月18日
公開日（公表日）： 2012年01月26日
要約：
耐疲労損傷性の、サブミクロンスケールまたはナノ粒子のミクロ構造を有し、改良された耐疲労損傷特性を示す金属または金属合金ワイヤ、およびそのようなワイヤを製造する方法を示す。本方法を使用して、500nm以下の平均粒子径を特徴とするナノ粒子ミクロ構造を有するワイヤを形成できる。本方法では、ワイヤは改良された耐疲労損傷性を示す。本方法に従って作製されるワイヤは、1つ以上のその他の材料特性の改良を示すことができ、例えば、極限強度、無負荷プラトー強度、永久変形、延性、および回復性歪み等である。本方法に従って製造されるワイヤは、医療機器、またはその他の高機能用途に使用できる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
直径および厚さの内の1つが1.0mm未満であり、500ナノメーター未満の平均粒子径を有する、移植適合性の、金属または非形状記憶金属合金を含む、金属ワイヤ。
IPC (7件)：
C22C 19/00 ,  A61L 29/00 ,  C22F 1/10 ,  C21D 8/06 ,  A61L 31/00 ,  C22C 30/00 ,  C22C 19/03
FI (7件)：
C22C19/00 Z ,  A61L29/00 B ,  C22F1/10 A ,  C21D8/06 B ,  A61L31/00 B ,  C22C30/00 ,  C22C19/03 A
Fターム (15件)：
4C081AC03 ,  4C081AC08 ,  4C081AC09 ,  4C081BB08 ,  4C081CG05 ,  4C081DA16 ,  4C081DB08 ,  4C167AA47 ,  4C167FF03 ,  4C167FF05 ,  4K032BA02 ,  4K032CG02 ,  4K032CH04 ,  4K032CH05 ,  4K032CM01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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