感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：天野一規 , 藤本勝誠 , 奥谷優 , 池田義典 , 小川博生 , 石田耕治 , 森田慶子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-294319
公開番号（公開出願番号）：特開2012-141458
出願日： 2010年12月28日
公開日（公表日）： 2012年07月26日
要約：

【課題】MEEF性能及びLWR性能等のリソグラフィー性能に優れ、かつパターン倒れ耐性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】[A]酸分解性基を有する構造単位から成る重合体、[B]放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合する少なくとも1個のフッ素原子又はパーフルオロアルキル基を有する化合物、並びに[C]放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合するフッ素原子及びパーフルオロアルキル基をいずれも有さない化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、 [B]放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合する少なくとも1個のフッ素原子又はパーフルオロアルキル基を有する化合物、並びに [C]放射線の照射により、スルホン酸、カルボン酸又はスルホンアミドを発生し、このスルホン酸、カルボン酸及びスルホンアミドがα位の炭素原子に結合するフッ素原子及びパーフルオロアルキル基をいずれも有さない化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 20/10 , C07C 381/12 , C07C 309/12 , C07C 65/10

FI (6件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , C08F20/10 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07C65/10

Fターム (38件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AH11 , 2H125AH12 , 2H125AH16 , 2H125AH24 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AL03 , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN82P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA03 , 4H006AB99 , 4H006BJ50 , 4H006BN30 , 4H006BS30 , 4J100AL03P , 4J100AL04P , 4J100AL05P , 4J100AL08Q , 4J100BA11Q , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-301795 出願人：富士写真フイルム株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-402244 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-186620 出願人：東京応化工業株式会社

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