特許
J-GLOBAL ID:200903033967184366

オニウム塩化合物、感放射線性酸発生剤およびポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-182089
公開番号(公開出願番号):特開2004-250427
出願日: 2003年06月26日
公開日(公表日): 2004年09月09日
要約:
【課題】保存安定性に優れ、高感度で高解像度の化学増幅型フォトレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物に使用される感放射線性酸発生剤として好適なオニウム塩化合物、該オニウム塩化合物からなる感放射線性酸発生剤、および該感放射線性酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】オニウム塩化合物は、カチオン部分が一般式(1)で表される。【化1】〔式中、AはIまたはS、mは1以上の整数、nは0以上の整数、、xは1〜15の整数、Ar1 およびAr2 は1価の(置換)芳香族炭化水素基等示し、OZはスルホン酸(エステル)の残基またはスルフィン酸(エステル)の残基を示す。〕ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(A)該オニウム塩化合物からなる感放射線性酸発生剤および(B)酸解離性基含有樹脂を含有する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
カチオン部分が下記一般式(1)で表されるオニウム塩化合物。
IPC (5件):
C07C381/12 ,  C08F2/50 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6件):
C07C381/12 ,  C08F2/50 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (21件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB81 ,  4J011SA87 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J011WA01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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