特許
J-GLOBAL ID:201203051974773540
欠陥検査装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-167978
公開番号(公開出願番号):特開2012-013707
出願日: 2011年08月01日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題がある。【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するXYステージと、被検査基板上の欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
前記被検査物に対して斜方から光を照明する照明部と、
前記被検査物の上方で前記被検査物からの散乱光を集光し、センサへ結像する検出部と、
前記センサの検出結果を使用して前記被検査物の欠陥を検出する処理部と、
温度及び気圧の少なくとも1つの変化に応じて前記センサの高さを変えるセンサ高さ変更部と、を有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件):
G01N 21/956
, G01B 11/30
, H01L 21/66
FI (3件):
G01N21/956 A
, G01B11/30 A
, H01L21/66 J
Fターム (54件):
2F065AA03
, 2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065BB03
, 2F065CC17
, 2F065CC19
, 2F065EE01
, 2F065EE07
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065FF41
, 2F065FF69
, 2F065FF70
, 2F065GG04
, 2F065GG05
, 2F065HH03
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065HH18
, 2F065JJ02
, 2F065JJ25
, 2F065LL00
, 2F065LL06
, 2F065LL08
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL25
, 2F065LL30
, 2F065MM03
, 2F065MM22
, 2F065MM24
, 2F065NN02
, 2F065NN03
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ11
, 2F065QQ13
, 2F065QQ23
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051BB07
, 2G051CA03
, 2G051CC07
, 2G051CD01
, 2G051DA05
, 2G051EA23
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA41
, 4M106DB01
, 4M106DB20
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特許第3566589号
-
特開平4-350613
-
パターン検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-219878
出願人:株式会社東芝
-
欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-282144
出願人:株式会社日立製作所
-
特許第3566589号
-
特開平4-350613
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