特許
J-GLOBAL ID:201203053935246544

給湯装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 内藤 浩樹 ,  永野 大介 ,  藤井 兼太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-039781
公開番号(公開出願番号):特開2012-177495
出願日: 2011年02月25日
公開日(公表日): 2012年09月13日
要約:
【課題】浴槽水循環回路内の汚れ部の物理的除去に加えて、菌増殖も抑制し、浴槽水循環回路内をより清潔に保つことができる給湯装置を提供すること。【解決手段】浴槽42と、前記浴槽42の水位を検知する水位検知手段44と、前記浴槽42に接続された浴槽水循環回路41と、制御手段とを備え、前記浴槽42内の水位が所定値以下の場合、前記浴槽水循環回路41に、無機化合物を溶解させた湯水を通水させる構成としたことを特徴とするもので、浴槽水循環回路41内の汚れ部の物理的除去に加えて、菌増殖も抑制し、浴槽水循環回路41内をより清潔に保つことができる給湯装置を提供できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
浴槽と、前記浴槽の水位を検知する水位検知手段と、前記浴槽に接続された浴槽水循環回路と、制御手段とを備え、前記浴槽内の水位が所定値以下の場合、前記浴槽水循環回路に、無機化合物を溶解させた湯水を通水させる構成としたことを特徴とする給湯装置。
IPC (3件):
F24H 1/00 ,  F24H 9/00 ,  A47K 3/00
FI (6件):
F24H1/00 602L ,  F24H1/00 602M ,  F24H1/00 301A ,  F24H9/00 Z ,  A47K3/00 E ,  A47K3/00 H
Fターム (8件):
3L024CC02 ,  3L024DD03 ,  3L024DD32 ,  3L024DD33 ,  3L024HH42 ,  3L024HH43 ,  3L036AA07 ,  3L036AD32
引用特許:
審査官引用 (4件)
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