特許

J-GLOBAL ID：201203055203719663

印刷物品の製造方法、印刷用版、およびペースト

発明者： 眞木 貴史
出願人/特許権者： 住友ゴム工業株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-024209
公開番号（公開出願番号）：特開2012-051359
出願日： 2011年02月07日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：

【課題】被印刷体の表面に、幅の狭い一定幅の格子状の非画線部を隔てて、複数の矩形状の画線部が配列された印刷物品を、精度良く連続的に製造しうる新規な印刷物品の製造方法と、前記製造方法に用いるのに適した印刷用版、およびペーストを提供する。【解決手段】シリコーンゴムからなり、画線部2に対応する凸部4と非画線部1に対応する格子状の凹溝5とを備え、幅W1が3〜80μm、高低差D1が3〜20μm、長さL1が15μm以上である印刷用版6の略全面にペーストを塗布して半乾燥させたのち基板を圧接させることで、凸部4上のペーストのみを基板の表面に転写させる。ペーストとしては、粘度η1が18.6〜374Pa・sで、かつチキソインデックス値TI=η1/η10が1.8〜8.6であるものを用いる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被印刷体の表面に、複数の画線部を、それぞれ一定幅の非画線部を隔てて配列してなる印刷物品を製造するための製造方法であって、 前記画線部に対応する複数の凸部、および前記凸部間に前記非画線部に対応する一定幅の凹溝を備えるとともに、少なくとも前記凸部の表面がシリコーンゴムからなり、隣り合う凸部間の間隔である凹溝の幅が3μm以上、80μm以下、前記凸部の表面と凹溝の底面との高低差が3μm以上、20μm以下で、かつ隣り合う凹溝間の間隔である凸部の幅が15μm以上である印刷用版の表面の略全面にペーストを塗布する工程と、 前記ペーストを半乾燥させる工程と、 前記ペーストを塗布した印刷用版の表面に前記被印刷体を圧接させることで、前記印刷用版の表面のうち凸部上のペーストのみを選択的に、前記被印刷体の表面に転写させる工程と、 を含むことを特徴とする印刷物品の製造方法。

IPC (1件)：

B41M 1/10

FI (1件)：

B41M1/10

Fターム (41件)：

2H113AA01 ,  2H113AA04 ,  2H113BA01 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113BC09 ,  2H113BC10 ,  2H113BC12 ,  2H113CA17 ,  2H113CA21 ,  2H113DA04 ,  2H113DA57 ,  2H113DA64 ,  2H113EA06 ,  2H113EA15 ,  2H113FA35 ,  2H113FA36 ,  2H113FA48 ,  5E343AA16 ,  5E343AA22 ,  5E343AA26 ,  5E343AA34 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB28 ,  5E343BB39 ,  5E343BB40 ,  5E343BB44 ,  5E343BB45 ,  5E343BB48 ,  5E343BB49 ,  5E343BB52 ,  5E343BB59 ,  5E343BB72 ,  5E343DD03 ,  5E343EE23 ,  5E343ER52 ,  5E343FF08 ,  5E343FF12 ,  5E343GG08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 有機トランジスタ、有機トランジスタアレイ及び表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-325771   出願人：株式会社リコー
• 印刷用凸版及びそれを用いた印刷方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-302956   出願人：旭化成株式会社