特許
J-GLOBAL ID：201203055719364438

プラズマ処理装置

発明者：
坂本 桂太郎

坂本 桂太郎 について

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江尻 広恵

江尻 広恵 について

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野村 文保

野村 文保 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-074641
公開番号（公開出願番号）：特開2012-209456
出願日： 2011年03月30日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
要約：
【課題】プラズマ中で発生した不要物質を速やかに排気することができ、かつ基板上での処理の均一性が良く、さらに生産性の高いプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器内に、カソード電極ユニットと、基板保持機構とを備え、カソード電極ユニットに電源が接続されたプラズマ処理装置であって、カソード電極ユニットは、カソード板6と、カソード板に隣接する第1の排気室7と、該第1の排気室に隣接する給気室8と、給気室に隣接する第2の排気室9とを備え、給気室は、ガス流入口13を備え、第2の排気室は、ガス排出口16を備え、カソード板は、カソード板を貫通する複数の給気孔11および複数の排気孔12を備え、複数の給気孔と給気室は、第1の排気室を貫通する複数の給気流路14により連結され、第1の排気室と第2の排気室は、給気室を貫通する複数の排気流路15により連結される構成を有する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
内部を減圧に保持する真空排気装置を備えた真空容器内に、 カソード電極ユニットと、 該カソード電極ユニットに対向して基板を保持する基板保持機構とを備え、 該カソード電極ユニットに電源が接続されたプラズマ処理装置であって、 前記カソード電極ユニットは、 カソード板と、 該カソード板に隣接する第1の排気室と、 該第1の排気室に隣接する給気室と、 該給気室に隣接する第2の排気室とを備え、 前記給気室は、ガス流入口を備え、 前記第2の排気室は、ガス排出口を備え、 前記カソード板は、該カソード板を貫通する複数の給気孔および複数の排気孔を備え、 前記複数の給気孔と前記給気室は、前記第1の排気室を貫通する複数の給気流路により連結され、 前記第1の排気室と前記第2の排気室は、前記給気室を貫通する複数の排気流路により連結される、 プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件)：
H01L21/205 ,  C23C16/44 E
Fターム (27件)：
4K030AA06 ,  4K030BA29 ,  4K030BB05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA03 ,  4K030KA02 ,  4K030KA28 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AE19 ,  5F045AF07 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EC01 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EF20 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EK07
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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