特許

J-GLOBAL ID：201203059444631967

ポリマーおよび表面改質六方晶窒化ホウ素粒子の複合体

発明者： プイ-ヤン・リン ,  ゴヴィンダザミー・パラマジヴァン・ラジェンラン ,  ジョージ・エリアス・ザール
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (2件)： 結田 純次 ,  竹林 則幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-510960
公開番号（公開出願番号）：特表2012-526906
出願日： 2010年05月12日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
要約：

提供されているのは、ポリマーとポリマー中に分散した複数の表面改質六方晶窒化ホウ素粒子とを含む複合体である。適切なポリマーとしてはポリイミドおよびエポキシが含まれる。方法も同様に提供されている。表面改質六方晶窒化ホウ素粒子は、表面結合された置換フェニルラジカルを含む。

請求項（抜粋）：

ポリマーと、その中に分散した複数の表面改質六方晶窒化ホウ素粒子とを含む複合体であって、該表面改質六方晶窒化ホウ素(SMhBN)粒子が、表面と該表面に結合した置換フェニルラジカルとを有する六方晶窒化ホウ素粒子を含み、該置換フェニルラジカルが、構造:

IPC (5件)：

C08L 101/00 ,  C01B 35/08 ,  C08K 9/04 ,  C08L 79/08 ,  C08L 63/00

FI (6件)：

C08L101/00 ,  C01B35/08 ,  C08K9/04 ,  C08L79/08 Z ,  C08L63/00 C ,  C08L79/08 A

Fターム (6件)：

4J002CD001 ,  4J002CM041 ,  4J002DK006 ,  4J002FB086 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 低粘度高熱伝導性ポリマー系窒化ホウ素組成物形成用表面処理窒化ホウ素及び該組成物の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-004010   出願人：エジソンポリマーイノベーションコーポレーション
• 表面改質六方晶窒化ホウ素粒子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-510961   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• フレキシブルプリント回路用の多層品
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-510965   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Chem. Mater., 2007, 19, 6323-30