特許
J-GLOBAL ID：201203062097844433
パターン検査装置およびパターン検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
池上 徹真
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-138061
公開番号（公開出願番号）：特開2012-002675
出願日： 2010年06月17日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：
【目的】信号振幅が低下したパターンが形成されたマスクを検査する場合であっても、検査で必要な十分なコントラストを得ることが可能な装置を提供することを目的とする。【構成】実施形態によれば、パターン検査装置は、センサと、記憶装置と、階調変換部と、比較部と、を備えている。かかるセンサは、パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像する。記憶装置は、マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する。階調変換部は、前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する。比較部は、階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像するセンサと、
マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する記憶装置と、
前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する階調変換部と、
階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, G03F1/08 S
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051BA10
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051CB02
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA24
, 2G051EA25
, 2G051EB01
, 2G051EB09
, 2H095BD13
, 2H095BD15
, 2H095BD20
, 2H095BD25
, 2H095BD27
