特許
J-GLOBAL ID：201203062181307605

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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安立 由香子

安立 由香子 について

, 
藤田 真吾

藤田 真吾 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-257152
公開番号（公開出願番号）：特開2012-193160
出願日： 2011年11月25日
公開日（公表日）： 2012年10月11日
要約：
【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるレジストパターンのラインエッジラフネス(LER)が必ずしも十分に満足できない場合があった。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、 R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表すか、又は、R1及びR2は互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜20の脂肪族環を形成する。 R3及びR4は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。 X1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。 Z1+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (7件)：
C07D 317/22 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/10 ,  C07D 317/72 ,  C07D 317/24 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
C07D317/22 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F220/10 ,  C07D317/72 ,  C07D317/24 ,  H01L21/30 502R
Fターム (48件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C022FA02 ,  4H006AA01 ,  4H006AB48 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA28 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC07 ,  4J100GC16 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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