特許
J-GLOBAL ID：201103008347750454

レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
杉原 昌子

杉原 昌子 について

, 
嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-131728
公開番号（公開出願番号）：特開2011-016793
出願日： 2010年06月09日
公開日（公表日）： 2011年01月27日
要約：
【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス(LER)を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される基を含む塩。[式(I)中、Tは、置換基を有していてもよい炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち少なくとも2つは、酸素原子又は硫黄原子で置換されている。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される基を含む塩。
IPC (7件)：
C07D 327/06 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
C07D327/06 ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (24件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TN30 ,  4H006TN60
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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