特許
J-GLOBAL ID：201203064310142670

微粒子の製造方法

発明者：
畠山 義清

畠山 義清 について

, 
西川 恵子

西川 恵子 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 千葉大学

国立大学法人 千葉大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-017820
公開番号（公開出願番号）：特開2012-158785
出願日： 2011年01月31日
公開日（公表日）： 2012年08月23日
要約：
【課題】イオン液体代替の、より環境負荷が小さく安定的に金属微粒子を製造する方法を提供する。【解決手段】微粒子の製造方法は、液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする。また、この手段において、貴金属は、金、銀、銅、白金の少なくともいずれかを含むことが好ましい。また、この手段において、高分子ポリエチレングリコールの数平均分子量は、200以上800以下の範囲にあることが好ましい。また、本手段において、スパッタリングの後、加熱処理を行うことが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする微粒子の製造方法。
IPC (4件)：
B22F 9/02 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/58 ,  C23C 14/00
FI (4件)：
B22F9/02 Z ,  C23C14/14 D ,  C23C14/58 A ,  C23C14/00 A
Fターム (14件)：
4K017AA03 ,  4K017BA01 ,  4K017BA02 ,  4K017CA08 ,  4K017EF05 ,  4K017EG01 ,  4K029AA11 ,  4K029AA21 ,  4K029BA05 ,  4K029BC03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029GA01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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