荷電粒子線描画装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-291126
公開番号（公開出願番号）：特開2012-138519
出願日： 2010年12月27日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】描画精度とスループットとの両立の点で有利な描画装置を提供する。【解決手段】複数の荷電粒子線でパターンを基板にショット領域ごとに描画する描画装置は、基板を保持し移動可能なステージと、複数の荷電粒子線を前記基板に投影する投影系と、前記基板に形成されたマークに前記投影系を介して入射した荷電粒子線により飛来する荷電粒子を検出して前記マークの位置を計測する計測器と、制御部とを備える。前記制御部は、あるショット領域に対する描画動作の開始から当該ショット領域に対する描画動作の終了までの間に、前記複数の荷電粒子線の中の少なくとも1つの荷電粒子線を用いて前記計測器により前記マークの位置を計測し、前記計測器の計測結果から前記複数の荷電粒子線の前記基板上における入射位置を補正するように前記ステージ及び前記投影系の少なくとも一方を制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の荷電粒子線でパターンを基板にショット領域ごとに描画する描画装置であって、基板を保持し移動可能なステージと、複数の荷電粒子線を前記基板に投影する投影系と、前記基板に形成されたマークに前記投影系を介して入射した荷電粒子線により飛来する荷電粒子を検出して前記マークの位置を計測する計測器と、制御部と、を備え、前記制御部は、あるショット領域に対する描画動作の開始から当該ショット領域に対する描画動作の終了までの間に、前記複数の荷電粒子線の中の少なくとも1つの荷電粒子線を用いて前記計測器により前記マークの位置を計測し、前記計測器の計測結果から前記複数の荷電粒子線の前記基板上における入射位置を補正するように前記ステージ及び前記投影系の少なくとも一方を制御する、ことを特徴とする描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01J 37/305 , G01B 15/00

FI (5件)：

H01L21/30 541K , H01L21/30 541D , H01L21/30 541W , H01J37/305 B , G01B15/00 K

Fターム (20件)：

2F067AA03 , 2F067BB27 , 2F067CC17 , 2F067FF16 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067KK04 , 2F067KK08 , 2F067LL03 , 2F067QQ02 , 2F067RR30 , 5C034BB07 , 5F056AA07 , 5F056AA13 , 5F056BA08 , 5F056BB03 , 5F056BB10 , 5F056BD02 , 5F056BD05 , 5F056CC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

位置検出装置及びそれを備えた電子ビーム露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-150989 出願人：キヤノン株式会社
特開昭63-020829
特開昭63-263720

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