特許
J-GLOBAL ID：200903064227104884

位置検出装置及びそれを備えた電子ビーム露光装置

発明者：
村木 真人

村木 真人 について

, 
後藤 進

後藤 進 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-150989
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330869
出願日： 1996年06月12日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 位置合わせマークの断面構造の断面構造の歪み、もしくは位置合わせマークを覆うレジストの塗布状態の影響を低減して、位置合わせマークの位置を検出できる電子ビーム露光装置を提供する。【解決手段】 電子ビームを用いて物体上に形成されたマークの位置を検出する位置検出装置において、前記物体上の予め決められた間隔で互いに異なる位置に複数の電子ビームを照射する手段と、前記複数の電子ビームを、前記物体に対して計測方向に略同一の変位量だけ変位させる変位手段と、前記変位手段によって、前記マーク上の前記複数の電子ビームを、計測方向に変位させた際の前記マークからの各電子ビームに対応した反射電子又は2次電子を合成して検出する電子検出手段と、 前記変位手段の変位量と前記電子検出手段の検出結果との関係に基づいて前記マークの位置を決定する決定手段とを有する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを用いて物体上に形成されたマークの位置を検出する位置検出装置において、前記物体上の互いに異なる位置に複数の電子ビームを照射する手段と、前記複数の電子ビームを、前記物体に対して計測方向に略同一の変位量だけ変位させる変位手段と、前記変位手段によって、前記マーク上の前記複数の電子ビームを、計測方向に変位させた際の前記マークからの各電子ビームに対応した反射電子又は2次電子を合成して検出する電子検出手段と、前記変位手段の変位量と前記電子検出手段の検出結果との関係に基づいて前記マークの位置を決定する決定手段とを有することを特徴とする位置検出装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00
FI (5件)：
H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 541 B
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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