特許
J-GLOBAL ID：201203068931981360
液体洗浄剤組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 持田 信二
, 義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-060848
公開番号（公開出願番号）：特開2012-197335
出願日： 2011年03月18日
公開日（公表日）： 2012年10月18日
要約：
【課題】スポンジなどの洗浄道具の除菌性、手洗いによる洗浄性、及び、低温保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】(a)非イオン界面活性剤〔但し(b)を除く〕を10〜50質量%、(b)炭素数6〜10のアルキル基を有するモノアルキルグリセリルエーテル化合物を1〜10質量%、(c)ポリヘキサメチレンビグアニド及び/又はその塩を0.01〜2質量%、並びに(d)両性界面活性剤を1〜10質量%含有する液体洗浄剤組成物であって、(e)炭化水素基を有する陰イオン性化合物の含有量が、(c)の含有量に対して25質量%以下である液体洗浄剤組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)非イオン界面活性剤〔但し(b)を除く〕を10〜50質量%、(b)炭素数6〜10のアルキル基を有するモノアルキルグリセリルエーテル化合物を1〜10質量%、(c)ポリヘキサメチレンビグアニド及び/又はその酸塩を0.01〜2質量%(但し酸塩はポリヘキサメチレンビグアニド換算の量である)、並びに、(d)両性界面活性剤を1〜10質量%含有する液体洗浄剤組成物であって、(e)炭化水素基を有する陰イオン性化合物の含有量が、(c)の含有量に対して25質量%以下である液体洗浄剤組成物。
IPC (7件)：
C11D 3/26
, C11D 17/08
, C11D 1/68
, C11D 1/72
, C11D 1/88
, C11D 1/02
, C11D 3/48
C11D3/26
, C11D17/08
, C11D1/68
, C11D1/72
, C11D1/88
, C11D1/02
, C11D3/48
4H003AB18
, 4H003AB19
, 4H003AC03
, 4H003AC05
, 4H003AC08
, 4H003AC15
, 4H003AD05
, 4H003BA12
, 4H003DA17
, 4H003DA19
, 4H003EA12
, 4H003EB12
, 4H003EB22
, 4H003FA16
, 4H003FA28
, 4H003FA34
, 4H003FA36
