含窒素有機化合物、ポジ型化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-172514
公開番号（公開出願番号）：特開2012-067080
出願日： 2011年08月08日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【解決手段】一般式(1)で示される含窒素有機化合物。(R1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R2とR3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアリール基を示し、R2とR3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。R4はアルコキシ基で置換されていてもよいアリール基を示す。)【効果】本発明の含窒素有機化合物を配合したポジ型化学増幅レジスト材料において、高エネルギー線の露光により発生した酸との反応によりカーバメートの脱保護反応が進行し、露光前後の塩基性度が変化することにより、解像性の高い、特にパターンの矩形性に優れ、ダーク・ブライト差の小さい良好なパターン形状を得ることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される含窒素有機化合物。

IPC (5件)：

C07D 235/08 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C07D 235/18

FI (5件)：

C07D235/08 , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C07D235/18

Fターム (31件)：

2H125AF17P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF38P , 2H125AH16 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM22P , 2H125AM66P , 2H125AM91P , 2H125AM99P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN61P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB48

引用特許：

審査官引用 (1件)

新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-093303 出願人：信越化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (7件)

FILE REGISTRY on STN,492998-44-4/RN,Entered STN:21
FILE REGISTRY on STN,392232-64-3/RN,Entered STN:14
FILE REGISTRY on STN,202523-30-6/RN,Entered STN:12

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