レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033537
公開番号（公開出願番号）：特開2012-190003
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び(B)式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、A1はアルカンジイル基;R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、*-CO-O-La-又は*-CH2-O-Lb-を表す。環W1は複素環を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 (A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び、 (B)式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 20/22

FI (5件)：

G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F20/22

Fターム (39件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AM22P , 2H125AM99P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC09Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-251254 出願人：JSR株式会社
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-284459 出願人：東京応化工業株式会社
含フッ素化合物および高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-284441 出願人：ダイトーケミックス株式会社

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