特許
J-GLOBAL ID：201203092281032910
塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-249143
公開番号（公開出願番号）：特開2012-113302
出願日： 2011年11月14日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
要約：
【課題】液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】1種以上の塩基反応性基、および(i)前記塩基反応性基とは異なる1種以上の極性基を含み、および/または(ii)前記塩基反応性基の少なくとも1種は過フッ素化されていない塩基反応性基である。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィーの際にレジスト層に接触する液浸流体へのレジスト材料の漏出の低減を示すことができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
a)(i)1種以上の樹脂
(ii)光活性成分、および
(iii)前記1種以上の樹脂とは異なり、かつ(A)1以上の塩基反応性基および(B)前記塩基反応性基とは異なる1以上の極性基を含む1種以上の材料
を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し、並びに
b)適用されたフォトレジスト層を前記フォトレジスト組成物を活性化する放射線に液浸露光する
ことを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。
IPC (4件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/11
, H01L 21/027
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, G03F7/11 501
, H01L21/30 502R
2H125AF16P
, 2H125AF36P
, 2H125AH11
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH24
, 2H125AJ13X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ54X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AN39P
, 2H125AN83P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CD07P
, 2H125CD31
, 2H125FA03
