塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-169947
公開番号（公開出願番号）：特開2012-067079
出願日： 2011年08月03日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるパターンのラインエッジラフネス(LER)が必ずしも満足できない場合があった。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2は、互いに独立に、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。環W1及び環W2は、互いに独立に、炭素数3〜36の脂肪族環を表す。R2及びR4は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表す。R3は、炭素数1〜12の炭化水素基を表す。t及びuは、互いに独立に、0〜2の整数を表す。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (7件)：

C07C 309/17 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 381/12 , C09K 3/00 , C08L 101/02 , C08K 5/36

FI (7件)：

C07C309/17 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C381/12 , C09K3/00 K , C08L101/02 , C08K5/36

Fターム (42件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ48Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AJ69Y , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB78 , 4J002AA031 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002EV237 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J002HA05

引用特許：

審査官引用 (1件)

化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いられる塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-168013 出願人：住友化学株式会社

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