特許

J-GLOBAL ID：201203079880602701

エチレンオキサイド製造用触媒及びエチレンオキサイドの製造方法

発明者： 杉山 茂 ,  小西 征則 ,  津村 勇多 ,  大久保 彰
出願人/特許権者： 国立大学法人徳島大学 ,  富田製薬株式会社
代理人 (1件)： 藤井 淳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-176812
公開番号（公開出願番号）：特開2012-035187
出願日： 2010年08月05日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】銀ナノ粒子が高分散で担持されたエチレンオキサイド製造用触媒を提供する。【解決手段】担体及びその担体に担持された銀ナノワイヤーを含む触媒であって、エチレンを酸化することによりエチレンオキサイドを製造するために用いるエチレンオキサイド製造用触媒に係る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

担体及びその担体に担持された銀ナノワイヤーを含む触媒であって、エチレンを酸化することによりエチレンオキサイドを製造するために用いるエチレンオキサイド製造用触媒。

IPC (4件)：

B01J 27/182 ,  B01J 37/34 ,  C07D 301/10 ,  C07D 303/02

FI (4件)：

B01J27/182 Z ,  B01J37/34 ,  C07D301/10 ,  C07D303/02

Fターム (35件)：

4C048AA01 ,  4C048BB01 ,  4C048CC01 ,  4C048XX02 ,  4C048XX05 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02B ,  4G169BA05B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC01A ,  4G169BC02A ,  4G169BC02B ,  4G169BC08A ,  4G169BC31A ,  4G169BC32A ,  4G169BC32B ,  4G169BC35A ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BD01A ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD06A ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169CB07 ,  4G169CB08 ,  4G169DA06 ,  4G169EB14X ,  4G169FA01 ,  4G169FB58 ,  4H039CA42 ,  4H039CC40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 酸化エチレン製造用触媒、その製造方法および当該触媒による酸化エチレンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-340572   出願人：株式会社日本触媒
• 太陽電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-252726   出願人：富士フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Engineering Selectivity in Heterogeneous Catalysis: Ag Nanowires as Selective Ethylene Epoxidation C